Поиск по полному или частичному коду (например, 1006), аналогу (BYK, TEGO, EFKA) или применению — с фильтрами по бренду, линейке, системе и отрасли.
Универсальная смачивающая добавка для водно-растворительных и УФ-систем с высокой точкой помутнения. Хорошо смачивает субстраты, препятствует усадке и обеспечивает выравнивание ЛКП без эффекта скольжения; растворима в воде. Работает в диапазоне pH 6–8.
Универсальная смачивающая добавка для водно-растворительных и УФ-систем. Быстро выравнивает покрытие и заметно снижает поверхностное натяжение, смачивает субстраты и предотвращает усадку без эффекта скольжения. Устойчива к гидролизу и работает в широком диапазоне pH.
ПодробнееУниверсальная смачивающая добавка для водно-растворительных и УФ-систем. Быстро выравнивает покрытие и заметно снижает поверхностное натяжение, смачивает субстраты и предотвращает усадку без эффекта скольжения. Устойчива к гидролизу и работает в широком диапазоне pH.
ПодробнееСмачивающая добавка для водно-растворительных и УФ-систем. Обеспечивает смачивание субстрата, препятствует усадке и не стабилизирует пену. Хорошая совместимость позволяет применять её в широком круге систем.
ПодробнееЗагуститель для растворительных и УФ-отверждаемых систем: предотвращает оседание наполнителей и пигментов и стекание ЛКП. Может усиливать действие пирогенного диоксида кремния.
ПодробнееЗагуститель для растворительных и УФ-отверждаемых систем: предотвращает оседание наполнителей и пигментов и стекание ЛКП. Совместим с пирогенным диоксидом кремния, усиливает его действие.
ПодробнееПодходит для водных, растворительных и УФ-отверждаемых систем. Обеспечивает быстрое выравнивание, значительно снижает поверхностное натяжение, работает в широком диапазоне рН. Устойчива к гидролизу.
ПодробнееПодходит для водных, растворительных и УФ-отверждаемых систем. Обеспечивает быстрое выравнивание, значительно снижает поверхностное натяжение, отлично смачивает субстрат и не влияет на скольжение.
ПодробнееУниверсальная смачивающая добавка для растворительных, водных и УФ-отверждаемых систем. Значительно снижает поверхностное натяжение, обеспечивает отличное смачивание субстрата и выравнивание, гасит пену и не влияет на скольжение.
ПодробнееПодходит для водных, растворительных и УФ-отверждаемых систем. Значительно снижает поверхностное натяжение, обеспечивает выравнивание, не влияет на скольжение. Работает в диапазоне рН 6–8.
Подробнее