Умный каталог.

Снижает поверхностное натяжение системы и обеспечивает отличное смачивание субстрата. Подходит для водных и УФ-отверждаемых систем.

Влияет на динамическое поверхностное натяжение, обладает высокой гидрофильностью. Отлично смачивает субстрат, препятствует образованию кратеров, улучшает выравнивание и не стабилизирует пену. Для водных систем.

Подходит для водных, растворительных и УФ-отверждаемых систем. Обеспечивает быстрое выравнивание, значительно снижает поверхностное натяжение, работает в широком диапазоне рН. Устойчива к гидролизу.

Значительно снижает поверхностное натяжение и обеспечивает смачивание субстрата в водных системах. Не стабилизирует пену.

Снижает поверхностное натяжение системы и обеспечивает смачивание субстрата. Не стабилизирует пену, обладает противопенными свойствами. Для водных и УФ-отверждаемых систем.

Снижает поверхностное натяжение системы, обеспечивает смачивание субстрата и не стабилизирует пену. Применяется в индустриальных водных ЛКМ и УФ-отверждаемых системах.

Снижает поверхностное натяжение системы, обеспечивает смачивание субстрата и не стабилизирует пену. Подходит для растворительных, водных и УФ-отверждаемых систем.

Обеспечивает отличное смачивание субстрата и выравнивание в водных и УФ-отверждаемых системах. Стабильна в воде, не провоцирует пену.

Подходит для водных, растворительных и УФ-отверждаемых систем. Обеспечивает быстрое выравнивание, значительно снижает поверхностное натяжение, отлично смачивает субстрат и не влияет на скольжение.

Универсальная смачивающая добавка для растворительных, водных и УФ-отверждаемых систем. Значительно снижает поверхностное натяжение, обеспечивает отличное смачивание субстрата и выравнивание, гасит пену и не влияет на скольжение.

Подходит для водных и органорастворимых систем. Превосходно смачивает субстрат и препятствует образованию кратеров.

Подходит для водных, растворительных и УФ-отверждаемых систем. Превосходно смачивает субстрат, препятствует образованию кратеров и не влияет на скольжение.

Влияет на динамическое поверхностное натяжение, обладает высокой гидрофильностью. Препятствует образованию кратеров, улучшает выравнивание, не влияет на скольжение и не стабилизирует пену. Для водных систем.

Подходит для водных, растворительных и УФ-отверждаемых систем. Значительно снижает поверхностное натяжение, обеспечивает выравнивание, не влияет на скольжение. Работает в диапазоне рН 6–8.

Снижает поверхностное натяжение системы, обеспечивает смачивание субстрата и не провоцирует пену. Подходит для растворительных, водных и УФ-отверждаемых систем.

Подходит для водных, растворительных и УФ-отверждаемых систем. Значительно снижает поверхностное натяжение, обеспечивает выравнивание, не влияет на скольжение. Работает в диапазоне рН 6–8.

Влияет на динамическое поверхностное натяжение, обладает высокой гидрофильностью. Препятствует образованию кратеров, улучшает выравнивание, не влияет на скольжение и не стабилизирует пену. Для водных систем.

Влияет на динамическое поверхностное натяжение, обладает высокой гидрофильностью. Препятствует образованию кратеров, улучшает выравнивание, не влияет на скольжение и не стабилизирует пену. Для водных систем.

Подходит для водных систем. Смачивает субстрат, препятствует образованию кратеров и усадке, снижает поверхностное натяжение, работает как пеногаситель. Для печатных красок.